苹果在iPhone上已经使用了长达5年的刘海屏，虽然目前iPhone13系列将刘海面积缩小，但是有效显示面积其实并没有增加太多，遮挡的情况依然严重。

一直以来，外界都希望苹果能早日实现屏下FaceID等技术，将刘海完全隐藏到屏幕下方，实现完全无开孔的效果，再配合上iPhone四边等宽的设计，视觉效果应该会非常出色。　　从最新消息来看，这个梦想可能不远了。

据报道，近日美国专利商标局在4月5日已正式授予苹果一项新专利，该专利介绍中显示，其可以将FaceID组件影藏在屏幕下方，屏幕依然可以正常显示，面部识别也能正常工作，两不耽误。　　不过需要注意的是，该专利是刚刚获批，这就意味着iPhone 14已经完全不可能搭载这项技术。

关键词： 苹果屏下FaceID专利刚刚获批