3 月 8 日消息 上海新阳今日发布公告：公布了最新的 ASML-1400 光刻机有关进展。
经各方积极协商、运作，ASML-1400 光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。公司采购的 ASML 干法光刻机设备顺利交付，对加快 193nmArF 干法光刻胶产品开发进度有积极影响。
据介绍，上海新阳半导体材料股份有限公司自立项开发 193nmArF 干法光刻胶的研发及产业化项目以来，委托购买了 ASML-1400 光刻机等核心设备，并于今日运抵国内。
官方对该公司的影响及风险提示：
1、公司采购的 ASML 干法光刻机设备顺利交付，对加快 193nm ArF 干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。
2、该光刻机尚须经过装机、调试等相关环节，若相关环节出现工作疏漏或失误则存在造成所购买的光刻机投入使用的过程较长甚至无法投入使用的风险。
3、光刻胶研发项目技术壁垒高、周期长、至产业化并最终实现销售利润仍需一定时间，而公司购买的光刻机设备价格昂贵，其折旧及后续维护费用预计对公司的经营业绩存在一定影响。
